Semicon Campus 編集部

半導体洗浄の評価方法を解説。粒子・金属・有機物をどう測るのか、光を当てて数える方法やX線を使うTXRFなどの考え方を、計算例つきで洗浄コース3級の講義として学べます。ことばのおさらいとよくある誤解も確認できます。

半導体洗浄の課題を解説。洗いすぎで表面があれるリスクと減らす方法、ウェット洗浄の課題、液を使わないドライ洗浄までを、計算例つきで洗浄コース3級の講義として学べます。ことばのおさらいとよくある誤解も確認できます。

半導体洗浄の基本であるRCA洗浄を解説。SC-1とSC-2の役割、有機物・粒子・金属を落とす仕組み、使う順番の理由を、計算例つきで、洗浄コース3級の第3講として学べます。ことばのおさらいとよくある誤解も確認できます。

半導体洗浄で落とす汚れは、粒子・有機物・金属・自然酸化膜の4種類。それぞれの害のしかたと落とし方のちがいを、計算例つきで、洗浄コース3級の第2講として基礎から学べます。ことばのおさらいとよくある誤解も確認できます。

半導体洗浄はなぜ何度も必要なのか。洗浄が製造工程の中で繰り返し登場する理由と、ごく小さな汚れが不良につながる仕組みを、計算例つきで、洗浄コース3級の第1講として学べます。ことばのおさらいとよくある誤解も確認できます。