半導体製造工程

半導体洗浄で使うフッ酸の安全を解説。痛みを感じにくくても危険とされる理由、体についたときの基本の流れ、事前に備えておくことを、洗浄コース3級の講義としてやさしく学べます。ことばのおさらいとよくある誤解も確認できます。

TXRF（全反射蛍光X線分析）の仕組みを解説。全反射でウェハ表面だけを見て金属汚染を測る方法と、どのくらい少ない汚れまで見つけられるかの目安を、洗浄コース3級・第5講の補講で学べます。ことばのおさらいとよくある誤解も確認できます。

クリーンルームのクラスの読み方と、汚れが入り込む経路を解説。半導体工場の清浄度の目安、空気を上から下へ流す理由、人が最大の発生源になる理由を、洗浄コース3級の補講で学べます。ことばのおさらいとよくある誤解も確認できます。

自然酸化膜は、フッ酸で落としたあとどのくらいで戻るのか。水素終端の表面のようすと、自然酸化膜がどれほどうすいかの目安を、洗浄コース3級・第2講の補講として学べます。ことばのおさらいとよくある誤解も確認できます。

バッチ洗浄と枚葉洗浄のちがいを解説。複数槽から1槽方式へ進化したバッチ洗浄の流れと、枚葉洗浄が重視される理由を、洗浄コース3級・第4講の補講として基礎から学べます。ことばのおさらいとよくある誤解も確認できます。

RCA洗浄の歴史と、SC-1が粒子を落とせる理由を解説。RCA洗浄が生まれた経緯、洗浄後のウェハ表面、現在の洗浄がどう変わったかを、洗浄コース3級・第3講の補講として学べます。ことばのおさらいとよくある誤解も確認できます。

半導体洗浄の評価方法を解説。粒子・金属・有機物をどう測るのか、光を当てて数える方法やX線を使うTXRFなどの考え方を、計算例つきで洗浄コース3級の講義として学べます。ことばのおさらいとよくある誤解も確認できます。

半導体洗浄の課題を解説。洗いすぎで表面があれるリスクと減らす方法、ウェット洗浄の課題、液を使わないドライ洗浄までを、計算例つきで洗浄コース3級の講義として学べます。ことばのおさらいとよくある誤解も確認できます。

半導体洗浄の基本であるRCA洗浄を解説。SC-1とSC-2の役割、有機物・粒子・金属を落とす仕組み、使う順番の理由を、計算例つきで、洗浄コース3級の第3講として学べます。ことばのおさらいとよくある誤解も確認できます。