イオン注入・熱処理3級コースの紹介
半導体製造の「イオン注入・熱処理」を、ゼロから5つの講義で学びます。シリコンに不純物を入れて、n型とp型をつくる目的から始め、不純物をイオンにして打ち込む装置の仕組み、打ち込んだイオンが止まる深さと結晶の損傷、損傷を直して不純物を働かせるアニール（熱処理）、そして熱酸化とシート抵抗による検査、よくある不良までを順に扱います。物理や化学の専門知識がなくても読めるよう、図と計算例で説明しています。
対象は、半導体の製造工程を基礎から理解したい学生・社会人、そして製造業から半導体の仕事に関心のある未経験の方です。講義の記事は誰でも読めます。
イオン注入・熱処理コースで学ぶ講義（全5講）
この講座は、各講義の記事を読んだあと、小テストで理解を確かめる流れで進めます。ログインすると、小テストの結果と学習の進み具合が記録されます。
- イオン注入とは？半導体に不純物を入れる目的と、拡散との違いをわかりやすく解説【イオン注入・熱処理3級・第1講】
半導体のドーピングとは、リンやホウ素を少し混ぜて、n型とp型をつくる工程です。 - イオン注入装置の仕組みとは？イオン源・質量分離・加速・ドーズ量をわかりやすく解説【イオン注入・熱処理3級・第2講】
イオン注入は、不純物をイオンにして加速し、ウェハへ打ち込む方法です。 - イオン注入の深さと分布とは？チャネリング・損傷・非晶質をわかりやすく解説【イオン注入・熱処理3級・第3講】
打ち込んだイオンは、どこで止まるのか。 - アニール（熱処理）とは？半導体の活性化・RTA・拡散をわかりやすく解説【イオン注入・熱処理3級・第4講】
イオン注入のあとのアニールは、損傷を直し、不純物を働かせる熱処理です。 - 半導体の熱酸化とシート抵抗とは？4探針法とよくある不良をわかりやすく解説【イオン注入・熱処理3級・第5講】
熱酸化、押し込み、膜の緻密化などの熱の使い方と、シート抵抗（4探針法）による検査、よくある不良の原因を、図つきで初心者向けに解説します。