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半導体のPVDとは?真空蒸着とスパッタの違いをわかりやすく解説【成膜3級・第2講】

PVD(物理気相成長)は、材料を飛ばして膜を付ける方法です。なぜ真空が必要か、蒸着とスパッタの仕組みと違いを、図つきで初心者向けに解説します。
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半導体のCVDとは?ガスの化学反応で薄膜をつくる仕組みをわかりやすく解説【成膜3級・第3講】

CVD(化学気相成長)は、ガスを表面で反応させて膜をつくる方法です。反応の例、LPCVDとPECVD、付き回りと膜の質を、図つきで初心者向けに解説します。
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ALD(原子層堆積)とは?1層ずつ薄膜をつくる仕組みをわかりやすく解説【成膜3級・第4講】

ALD(原子層堆積)は、原子の層を1枚ずつ重ねて膜をつくる方法です。1サイクルの4ステップ、自己制限、厚さの決まり方、使いどころを、図つきで初心者向けに解説します。
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薄膜の評価とは?膜厚・シート抵抗の測り方と成膜方法の使い分けをわかりやすく解説【成膜3級・第5講】

成膜した膜が狙いどおりかを確かめる方法を解説します。エリプソメトリでの膜厚測定、シート抵抗と四探針法、均一さと付き回り、応力、方法の使い分けまでを、図つきで説明します。
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成膜とは?半導体チップの薄膜をつくる工程の役割をわかりやすく解説【成膜3級・第1講】

半導体チップは、絶縁する膜と電気を通す膜を重ねてできています。成膜とは何か、膜の4つの役目、大まかな方法を、図つきで初心者向けに解説します。
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電子と正孔は、どうやって電気を運ぶのか?

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半導体とは何か?電気を通す物と通さない物の、あいだの物質

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