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富士フイルム「プレスケールモーション」発売、ウエハ研磨の圧力変化を可視化

半導体ニュース

富士フイルムは2026年9月7日、加圧中の圧力変化を測定・記録する「プレスケールモーション」の発売を発表しました。ウエハ研磨を用途例の一つに挙げています。

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何が起き、なぜ重要か

発表日:2026-09-07 / 出来事の日:2026-09-07(発売)

最大圧力だけでなく、工程途中の変化を見るための情報が増えます。これは機能から読み取れる意義であり、歩留まり改善の実証結果ではありません。

背景用語

面圧は接触面にかかる圧力。動的測定は時間による変化を追うことです。CMPは化学作用と機械作用で表面を平らに整える工程です。

発表で確定していること

メーカーが発売日と機能・用途例を公表したこと。

まだ確定していないこと

個別の半導体工場での導入、対応装置、研磨品質や歩留まりの改善効果。発売発表だけでは確定できません。

9月7日に発売、研磨途中の圧力変化を記録

富士フイルムは2026年9月7日、動的面圧センサシステム「プレスケールモーション」を同日から発売すると発表しました。接触面にかかる圧力が、加圧の開始から終了までどう変わるかを可視化する製品です。半導体分野では、ウエハ研磨時のヘッドとウエハの間で、接触状態や荷重がどう変化するかを確認する需要を用途例として挙げています。富士フイルムの発売発表

今回のニュースは、将来の開発構想ではなく、メーカーによる販売開始の発表です。ただし、発売と半導体工場での量産導入は別の出来事です。発表には半導体顧客の名前、納入件数、研磨品質や歩留まりの改善値は示されていません。現時点で確認できるのは、測定システムの発売と、その機能・想定用途までです。発売発表の内容

「面圧」と「動的測定」は何を意味するか

面圧とは、接触している面にかかる圧力のことです。初心者向けには、面を細かな区画に分け、それぞれがどの程度強く押されているかを見る、と考えると分かりやすいでしょう。面全体の代表値だけでなく、どこに圧力が集中しているかという分布が評価の対象になります。プレスケールモーションは、専用フィルムとコントローラからなる面圧センサを、モバイル端末と組み合わせて使います。製品概要

動的測定は、状態の時間変化を追う測定です。例えば「押し始めに片側へ圧力が寄り、その後に分布が変わった」という経過を調べる視点です。これは本製品で確認された研磨事例ではなく、時間情報の意味を説明する例です。メーカーは、従来製品で得る最大加圧時の静的データと、モーションで得る動的データを組み合わせて評価する使い方を示しています。静的・動的データの比較

ウエハ研磨との接点は、この「いつ変わったか」にあります。富士フイルムは、研磨開始から完了までのヘッドとウエハ間の圧力変化を記録する需要を説明しています。そのため今回の意義は、接触面の圧力分布に時間方向の情報を加え、工程途中の状態を調べる手掛かりを増やす点にあると考えられます。これは測定機能から読み取れる意義であり、研磨不良の削減を実証した結果ではありません。半導体ウエハ研磨の用途説明

従来の発色フィルムから何が変わったのか

技術的な背景にあるのが、従来の圧力測定フィルム「プレスケール」です。圧力がかかると内部の微小なカプセルが壊れ、中の染料が顕色剤と反応して赤くなります。その色の濃さを圧力の評価に利用する仕組みです。色と圧力を対応づける検量線は、測定時の温度や湿度に応じて選びます。つまり、発色を読み取る際にも測定条件の確認が必要です。従来のプレスケールの構造と使用方法

一方、モーションは専用の面圧センサから時間に沿ったデータを取得します。通常の発色フィルムを動画撮影するだけの製品、と理解すると違いを見失います。また、従来フィルムのカプセルが壊れて発色する原理を、そのままモーション専用センサの検出原理として説明することもできません。メーカーの説明は、従来の静的評価と新しい動的評価を組み合わせる構成です。プレスケールモーションの構成と評価方法

面圧測定から工程評価・装置の仕事へ

面圧の時間変化を仕事へ結び付けるには、測定条件、圧力分布、研磨後の結果を一組にして整理します。測れたことと不良原因を確定したことは別です。現場で記録や点検を担当した人は、自分が確認した範囲と工程担当への引継ぎを説明できます。計測・品質の基礎を補う学習と、製造・装置・保全の経験に合う求人相談を併用してみましょう。

1024点・約30Hzの仕様をどう読むか

2026年9月時点の公式仕様では、測定点は32×32の1024点、測定周波数は約30Hz、AD変換は8bitです。Hzは1秒あたりの回数を表す単位で、約30Hzなら約1秒に30回の測定に相当します。AD変換はセンサの信号をデジタルの数値にする処理です。8bitは256段階の値で表すことを意味しますが、それだけで圧力測定の正確さが決まるわけではありません。これらはメーカーの公称仕様です。主な仕様

項目公称仕様
計測サイズ80mm角、200mm角
素子サイズそれぞれ2.5mm、6.25mm
フィルム厚み0.2mm以下
推奨対応圧0.5~2.5MPa。感度調整による可変の注記あり
データ機能測定、表示、保存、再生、TSV出力

表の数値・機能は公式仕様に基づきます。計測サイズや素子サイズは、どの広さをどの細かさで調べるかに関わる条件です。約30Hzという時間的な細かさにも限りがあります。したがって、1024点という点数だけから、あらゆる微小な接触むらや短時間の変化を捉えられると判断することはできません。

数値の単位にも注意が必要です。製品概要では、動的データの「総圧」「平均圧」はbitを単位とし、領域内の8bit値の合計・平均と定義されています。圧力の単位であるMPaの値として、そのまま読むことはできません。分布や変化を比較できる機能と、絶対的な圧力値をどの精度で測れるかは、分けて確認する必要があります。測定項目の定義

量産での効果を判断するために、次に見るべき情報

半導体ウエハ研磨が用途例に含まれていても、すべての研磨装置へそのまま適用できると示されたわけではありません。今回の発表と製品概要・仕様だけでは、研磨液への耐性、回転中の設置方法、具体的な対応装置、動的測定の絶対圧精度までは確定できません。使用する工程の圧力や計測範囲が、公称仕様に合うかどうかも確認対象です。用途の発表、適用条件に関わる仕様

今後は、実際の半導体顧客による導入事例と、どの条件で何を測れたかに注目したいところです。工程改善の効果を判断するには、圧力変化を記録できたことに加え、その情報を使った調整で研磨品質や歩留まりがどう変わったかという比較が必要になります。現段階の根拠はメーカーによる発売・機能説明であり、独立した性能検証ではありません。今回のニュースは、研磨工程を評価する情報が増える製品の登場として受け止めるのが適切です。発売発表、製品概要

この記事の知識を、次の仕事・学習へつなげる

測定条件の記録、研磨結果の照合、装置点検の経験を、対象・作業・確認した結果で整理します。担当範囲と必要経験、勤務地、勤務・出張、教育体制を比較すると、次に補う知識も具体的になります。

出典

次に読む

背景を知る:CMPとは何か

表面を平らにする仕組みがわかると、研磨中の接触や荷重を調べる意味を理解できます。

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