露光（フォトリソグラフィ）3級コースの紹介
半導体の細かい回路を光でウェハに写し取る「露光」工程を、ゼロから5つの講義で学びます。露光とは何かという全体像から始め、光に反応するフォトレジストの性質、レジストの塗布・ベーク・現像の手順、どこまで細かく写せるかを決める波長とNA、そして最先端のEUV露光までを順に扱います。専門知識がなくても読めるよう、図と簡単な計算例で説明しています。
対象は、半導体の製造工程を基礎から理解したい学生・社会人、そして製造業から半導体の仕事に関心のある未経験の方です。講義の記事は誰でも読めます。
露光（フォトリソグラフィ）コースで学ぶ講義（全5講）
この講座は、各講義の記事を読んだあと、小テストで理解を確かめる流れで進めます。ログインすると、小テストの結果と学習の進み具合が記録されます。
- 露光とは？半導体の回路をウェハに写すフォトリソグラフィの役割をわかりやすく解説【露光3級・第1講】
半導体の細かい回路の形は、光でウェハに写してつくります。 - フォトレジストとは？露光でのレジストの役割としくみをわかりやすく解説【露光3級・第2講】
光を当てると形が残る膜、フォトレジスト。 - フォトリソグラフィの仕組みは？レジストの塗布・ベーク・現像の手順をわかりやすく解説【露光3級・第3講】
レジストをウェハに塗り、焼き、現像するまでの手順を解説します。 - 露光の解像度とは？波長・NA・液浸で決まる最小線幅をわかりやすく解説【露光3級・第4講】
どこまで細かい形を写せるかは、波長とNA(開口数)で決まります。 - EUV露光とは？極端紫外光で細かい回路を写す仕組みをわかりやすく解説【露光3級・第5講】
波長13.5nmのEUV光で、さらに細かい回路を写す技術を解説します。